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型號(hào):XAU

緊固件螺絲鍍層測(cè)厚儀

描述:緊固件螺絲鍍層測(cè)厚儀是對(duì)材料表面保護(hù)、裝飾形成的覆蓋層進(jìn)行厚度測(cè)量的儀器,測(cè)量的對(duì)象包括涂層、鍍層、敷層、貼層、化學(xué)生成膜等。測(cè)試方法主要分為:電渦流法、磁感應(yīng)法、金相法、庫(kù)侖法以及X射線熒光法。今天,我們主要為您講解后三種方法的區(qū)別以及關(guān)系。

  • 廠商性質(zhì)

    經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間

    2025-05-18
  • 訪問量

    921
詳細(xì)介紹
品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間面議
產(chǎn)地類別國(guó)產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,包裝/造紙/印刷

 1、測(cè)量原理比較

測(cè)試方法 測(cè)試原理 
金相法 利用金相顯微鏡放大橫截面的原理,對(duì)鍍層厚度放大,進(jìn)行觀測(cè)及測(cè)量。 
庫(kù)侖法 利用適當(dāng)?shù)碾娊庖宏?yáng)極溶解限定面積的覆蓋層,根據(jù)所耗的電量計(jì)算出覆蓋層的厚度。 
X射線光譜法 利用X射線與基體和覆蓋層的相互作用產(chǎn)生的離散波長(zhǎng)和能量的二次輻射強(qiáng)度與覆蓋層單位面積質(zhì)量之間存在一定的關(guān)系。根據(jù)校正標(biāo)準(zhǔn)塊提供的單位面積質(zhì)量的覆蓋層校正這一關(guān)系,給出覆蓋層線性厚度。 

 2、標(biāo)準(zhǔn)、要求、儀器的選型

測(cè)試方法 參考標(biāo)準(zhǔn) 樣品要求 儀器 
金相法 ASTM B487;GB/T 6462  鍍層厚度不小于1um 切割機(jī)、真空浸漬儀、研磨機(jī)、金相顯微鏡 
庫(kù)侖法 ASTM B764;GB/T4955  平面不小于5mm2電解測(cè)厚儀 
X射線光譜法 ASTM B568; GB/T16921 測(cè)試面積大于0.05×0.25mm X-ray鍍層測(cè)厚儀

 3、測(cè)試因素比較


金相法 庫(kù)侖法 X射線光譜法 
測(cè)試范圍 >1um 0~35um 重金屬0~10um 、其它0~35um 
測(cè)試精度 高 稍差 高 
制樣 制樣復(fù)雜 配置不同電解液 簡(jiǎn)單 
工件損傷 有損 有損 無(wú)損 
操作方法 操作復(fù)雜 復(fù)雜 簡(jiǎn)單 
測(cè)試效率 非常低 低 高 
層數(shù) 不限 單層和Cr/Ni/Cu復(fù)合鍍層 多5層 
鍍層預(yù)知 不需要 需要 需要 
合金鍍層厚度 可測(cè) 不可測(cè) 可測(cè) 
合金成分 EDS聯(lián)用 不可測(cè) 可測(cè) 
溶液成分測(cè)試 不可測(cè) 不可測(cè) 可測(cè) 
人為因素 影響大 影響大 影響小 
價(jià)格 較高 低 高 

  

 

4.應(yīng)用X熒光法的優(yōu)勢(shì)

 

1.緊固件螺絲鍍層測(cè)厚儀樣品處理方法簡(jiǎn)單或無(wú)前處理2.可快速對(duì)樣品做定性分析3.對(duì)樣品可做半定量或準(zhǔn)定量分析4.譜線峰背比高,分析靈敏度高5.不破壞試樣,無(wú)損分析6.試樣形態(tài)多樣化(固體、液體、粉末等)7.設(shè)備可靠、維修、維護(hù)簡(jiǎn)單8.快速:一般測(cè)量一個(gè)樣品只需要1~3分鐘,樣品可不處理或進(jìn)行簡(jiǎn)單處理。9.無(wú)損:物理測(cè)量,不改變樣品性質(zhì)10.準(zhǔn)確:對(duì)樣品可以分析11.直觀:直觀的分析譜圖,元素分布一幕了然,定性分析速度快12.環(huán)保:檢測(cè)過(guò)程中不產(chǎn)生任何廢氣、廢水 

5.緊固件螺絲鍍層測(cè)厚儀XAU

儀器性能特點(diǎn)1.滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測(cè)試需求2.φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿足微小測(cè)試點(diǎn)的需求,可以對(duì)同一鍍件不同部位測(cè)試厚度3.高精度移動(dòng)平臺(tái)可定位測(cè)試點(diǎn),重復(fù)定位精度小于0.005mm4.采用高度定位激光,可自動(dòng)定位測(cè)試高度5.定位激光確定定位光斑,確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊6.鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái),鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn)7.高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn)8.良好的射線屏蔽作用9.測(cè)試口高度敏感性傳感器保護(hù)

儀器參數(shù)規(guī)格1   分析元素范圍:S-U2   同時(shí)可分析多達(dá)5層以上鍍層3   分析厚度檢出限達(dá)0.005μm4   多次測(cè)量重復(fù)性可達(dá)0.01μm5   定位精度:0.1mm6   測(cè)量時(shí)間:30s-300s7   計(jì)數(shù)率:1300-8000cps8   Z軸升降范圍:0-140mm9   X/Y平臺(tái)可移動(dòng)行程:50mm(W)×50mm(D) 


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